日 期： 6月15日(星期四) 13:10~15:30
地 点： 台湾大学竹北校区碧祯馆107会议室 (新竹县竹北市庄敬一路88号)
讲 师： David Y.H.Pui (裴有康)
Distinguished McKnight University Professor and LM Fingerson/TSI Inc Chair in Mechanical Engineering. University of Minnesota
Member of the US National Academy of Engineering (NAE) (美国国家工程学院院士)
讲 题：Ultra-Clean Environment for Advanced Semiconductor Manufacturing Processes: Liquid and Air Filtration for
sub-20 nm particles; Protection Schemes for EUVL systems; Real-time AMC Detection in Cleanroom
议 程：
| 13:10-13:20 | 报 到 | |
| 13:20-13:30 | 主持人致词：胡石政 台北科技大学特聘教授 | |
| 13:30-15:30 | 先进的半导体制造工艺的超净环境： 液体和空气过滤子 20 毫微米粒子;保护计划也系统;在洁净室的实时 AMC 检测 | |
摘要
先进的半导体制造工艺超净环境必须使用超敏感探测器和测量技术监视的进程，评价各种污染控制方案。粒子技术实验室 (PTL) 制定了许多文书和取样器来执行这些度量，帮助建立 ISO 标准和工业实践。我们的研究已导致开发 ISO 标准气溶胶粒子数浓度和颗粒大小分布的测定。我们还帮助美国国家标准和技术协会 (NIST) 在建立 60 毫微米和 100 毫微米粒子标准。过滤是主要手段，以控制在洁净和清洁工艺环境污染。
为过滤研究 (CFR) 在明尼苏达大学组成 18 领先国际过滤公司，中心的建立寻找过滤解决方案，以减轻洁净和环境污染物。CFR 调查人员对空气、 气体和液体的过滤执行基本和应用研究。将提出测量和筛选子 20 毫微米粒子在液体和空气中的基础研究。极紫外投影光刻 （也） 是领先的光刻技术的下一代半导体芯片。我们已经开发技术，以保护免受污染和暴露在低压力降到 20 mTorr 专用光刻工具期间所有处理步骤，包括运输和储存在大气压力的 EUV 光掩膜。这些保护计划建模并进行了实验验证。最后，空气分子污染 (AMC)，组成的挥发性有机化合物 (VOCs)，可减少半导体芯片的产量形成纳米粒子和霾天气对硅晶片和光掩膜光刻过程的紫外线照射下。我们已经发展到屏幕材料的出气 ppt 一级的潜在 VOCs 的实时、 在线的方法。将给出实例，检测出气从 PM2.5 颗粒沉积在暖通空调预过滤器为洁净室中的挥发性有机化合物。
演讲者传记
教授大卫 Y.H.培是杰出的麦克奈特大学教授和 LM Fingerson/TSI 公司把椅子在明尼苏达大学的机械工程。他是美国国家工程院 (NAE) 和主任的世界知名粒子技术实验室 (PTL) 在明尼苏达大学的成员。他也是为过滤研究 (CFR) 中心的主任与 18 领先国际过滤公司作为成员。博士培气溶胶和纳米科学和过滤技术中有广泛的研究经验，并拥有超过 270 期刊论文和 30 多项专利。他的研究兴趣集中的气溶胶科学和技术、 纳米工程，工业应用和研制仪器用于生成、 采样和测量空气中的微粒。他制定了几种使用广泛的商业气溶胶文书和也系统的几种保护方案。医生培获得过许多奖项，包括马克斯普朗克研究奖 （1993 年），最高的纪律奖联合授予的美国、 德国和日本的气溶胶协会，爱因斯坦教授奖 （2013 年） 由中国科学院科学 (CAS) Fuchs 纪念奖 (2010) — — 资深美国科学家 （2000 年），洪堡研究奖。
赞 助 Sponsors：科技部 大金能源
主 办 Host：国立台北科技大学洁净技术研发中心、交通大学pm2.5联盟
协 办 Co-host：台大高科技厂房设施研究中心、中华洁净技术协会
活动剪影：
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